[ OCTOPUS ]

SAW Sensoren mit neuer Technologie

Im Octopus Projekt wird die Herstellung von SAW Sensoren anhand von Nano Imprint Lithographie untersucht. Damit könnten Sensoren mit einer Arbeitsfrequenz >2GHz kostengünstig hergestellt werden.

Replikation von minimalen Strukturen

Ähnlich wie beim Buchdruck, geht es bei der Nano Imprint Lithographie um die Replikation von Strukturen anhand von vorgefertigten Stempeln. Einziger Unterschied ist, dass sogar Strukturen in der Größenordnung von nur 50nm hergestellt werden können. Zielsetzungen im Projekt sind:

  • Entwicklung von eines Nano Imprint Prozesses für die Produktion von SAW Funksensoren
  • Entwicklung von speziellen Metallbeschichtungsprozessen
  • Entwicklung einer Step & Flash Nano Imprint Lithographie

Eine Technologie eröffnet neue Möglichkeiten

Neben der detailgetreuen Wiedergabe von Strukturen in minimaler Größenordnung (nm), kann man weiters auch die Auflösung dieser erhöhen und gleichzeitig Kosten sparen. Durch die Verwirklichung des Projekts wird ebenso eine Grundlage geschaffen, SAW Sensoren bis zu einer Arbeitsfrequenz von 5 GHz zu fertigen.

ProjektFakten

Titel: OCTOPUS- The European Nano Imprint Factory- nanoprocesses, production and business
Start: Januar 2008
Dauer: 3 Jahre
Partner: DTU Nanotech, DTU Danchip, NanoSyd, MCI, Syddansk Universitet, University of Texas, Nil Technology ApS, Polyteknik A/S, Sense A/S, Widex A/S